光氧催化設備燈管

光氧催化淨化器應用途徑

利用光化學反應降解汙染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使汙染物氧化分解；後者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過photo-Fenton反應產生·HO使汙染物得到降解，非均相光催化降解中較常見的是在汙染體係中投加一定量的光敏半導體材料，同時結合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發產生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產生·HO等氧化性極強的自由基，再通過與汙染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式汙染物全部或接近全部礦化。 

光氧催化淨化器發展史

1972 年，Fujishima和 Honda在n—型半導體TiO2電極上發現了光催化裂解水反應，在Nature 上發表了“Electrochemical photolysis of water at a semiconductor electrode”，揭開了多相光催化新時代的序幕。

1976 年John. H .Carey等研究了多氯聯苯的光催化氧化，，被認為是光催化技術在消除環境汙染物方麵的首創性研究工作。1977 年，YokotaT 等發現在光照條件下,TiO2對丙烯環氧化具有光催化活性，從而拓寬了光催化的應用範圍，為有機物氧化反應提供了一條新的思路。自1983 年起，A.L. Pruden和D.Follio就烷烴、烯烴和芳香烴的氯化物等一係列汙染物的光催化氧化作了連續研究，發現反應物都能迅速降解。1989 年，Tanaka.K 等人研究發現有機物的半導體光催化過程由羥基自由基（·OH）引起，在體係中加入H2O2可增加·OH的濃度。進入了90 年代，隨著納米技術的興起和光催化技術在環境保護、衛生保健、有機合成等方麵應用研究的發展迅速，納米量級的光催化劑的研究，已經成為國際上最活躍的研究領域之一。